工藝 | 清潔源 | 容器 | 清潔效果 |
剝離光刻膠 | 氧等離子體 | 平板反應(yīng)器 | 刻蝕膠 |
去聚合物 | 硫酸:水=6:1 | 溶液槽 | 除去有機(jī)物 |
去自然氧化層 | 氟化氫:水<1:50 | 溶液槽 | 產(chǎn)生無(wú)氧表面 |
旋轉(zhuǎn)甩干 | 氮?dú)?/span> | 甩干機(jī) | 無(wú)任殘留物 |
RCA1#(堿性) | 氫氧化銨:過(guò)氧化氫:水=1:1:1.5 | 溶液槽 | 除去表面顆粒 |
RCA2#(堿性) | 氯化氫:過(guò)氧化氫:水=1:1:5 | 溶液槽 | 除去重金屬粒子 |
DI清洗 | 去離子水 | 溶液槽 | 除去清洗溶劑 |