過程簡述

超純水（Ultrapure water）又稱UP水，是指電阻率達到18 MΩ*cm（25℃）的水。這種水中除了水分子外，幾乎沒有什么雜質，更沒有細菌、病毒、含氯二噁英等有機物，當然也沒有人體所需的礦物質微量元素，也就是幾乎去除氧和氫以外所有原子的水?？梢杂糜诔儾牧希ò雽w原件材料、納米精細陶瓷材料等）應用蒸餾、去離子化、反滲透技術或其它適當?shù)某R界精細技術的制備過程 
在半導體產(chǎn)品制造過程中，由于生產(chǎn)設備的精密性和生產(chǎn)工藝的復雜性，對其配套設施提出了很高的要求，尤其對作為半導體行業(yè)血脈 的超純水系統(tǒng)更是高之又高。半導體行業(yè)超純水制造工藝可以概述為4個部分，分別為預處理部分、RO部分、電去離子部分和拋光混床部分；在有些半導體廠中， 也有用“陰床+陽床”代替電去離子裝置的，主要根據(jù)原水水質和產(chǎn)水水質對弱電解質的要求而定。
 

產(chǎn)品優(yōu)勢

 
1.避免傳統(tǒng)離子再生耗費的大量酸堿，對環(huán)境更友好；
2.克服傳統(tǒng)離子設備再生周期相對較長；
3.超濾反洗排水、一級RO濃水排水和CEDI濃水排水及其回收利用措施，利于節(jié)能減排；
4.節(jié)約水資源及半導體制造單位的運行成本。
產(chǎn)品應用
 
預處理部分
1.多介質過濾器+活性炭過濾器;
2。粗過濾器+超濾裝置。
 
反滲透部分
反滲透膜.。
電去離子部分
EDI模塊和 CEDI模塊。
 
拋光混床
推薦產(chǎn)品：
精密濾芯過濾器、RO反滲透設備